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金吾財訊 | 美國芯片制造商的一位高管周五告訴媒體,英特爾(INTC)預計將于今年晚些時候從荷蘭制造商阿斯麥(ASML)收到其第一臺下一代極紫外光刻機 High-NA EUV。
“我周一在 ASML。我們應該會在今年晚些時候得到它(高數(shù)值孔徑 EUV)。他們正在努力將所有這些放在一起并做好準備。所以,到目前為止,一切都很好,”英特爾技術開發(fā)總經(jīng)理Ann Kelleher在接受采訪時表示。
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